10纳米制程

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10纳米制程半导体制造制程的一个水准。

历史

三星电子联发科在2017年推出10纳米器件,三星电子的Exynos 9 Octa 8895高通Snapdragon 835是首批量产供货的10nm芯片产品,于第一季问世。

苹果公司于2017年尾发表的Apple A10X(第二代iPad Pro)和Apple A11iPhone 8iPhone X)均由台积电10nm FinFET制程生产。

英特尔于2018年推出了第一款10nm制程的处理器,采用Cannon Lake微架构。 但此微架构仅有一款笔电处理器——i3-8121U。由于预期性能及研发难度超越他厂的同名称制程,因此桌上电脑和服务器级处理器推迟至2020年以后。[1]2019年第三季,英特尔推出了第二代10nm制程处理器,采用Ice Lake微架构。这次发表的处理器全部是笔电处理器。

三星将后续优化的制程命名为8奈米,以融入了部分7奈米制程继续为特点,于2018年量产。[2]

2021年7月,英特尔宣布新的节点命名方式,将其节点与物理尺寸脱勾,其中10nm Enhanced SuperFin制程更名为“Intel 7”[3][4]

在10纳米中,金属的宽度为40至50纳米,[5]其后继制程是7纳米。

参考文献

先前
14纳米制程
半导体器件制造制程 其后
7纳米制程